美國NI PXIe-5860 雙通道RF PXI矢量信號(hào)收發(fā)儀(VST)是具有1GHz瞬時(shí)帶寬的雙通道8.5 GHzPXI矢量信號(hào)收發(fā)儀(VST)。該VST將兩個(gè)矢量信號(hào)發(fā)生器和兩個(gè)矢量信號(hào)分析儀組合成一個(gè)雙槽PXIExpress儀器。PXle-5860不僅具備高密度、快速的測(cè)量速度和小巧的生產(chǎn)測(cè)試儀器組成結(jié)構(gòu),同時(shí)還擁有研發(fā)級(jí)盒式儀器的靈活性和高性能。可使用VST對(duì)蜂窩和無線標(biāo)準(zhǔn)(例如，Wi-Fi7和5GNR)執(zhí)行誤差矢量幅度(EVM)測(cè)試。通過PXle-5860的通道密度、頻率覆蓋范圍和帶寬可用性，您還可以為各種半導(dǎo)體和電子生產(chǎn)應(yīng)用執(zhí)行多站點(diǎn)和多通道測(cè)試。

RF發(fā)生器頻率范圍: 50 MHz 至 8.5 GHz

RF發(fā)生器瞬時(shí)帶寬: 1 GHz

RF分析儀頻率范圍: 50 MHz 至 8.5 GHz

RF分析儀瞬時(shí)帶寬: 1 GHz

發(fā)生器調(diào)諧時(shí)間（典型）: 150 us

I/O Type: RF

美國NI PXIe-5860 雙通道RF PXI矢量信號(hào)收發(fā)儀(VST)采用創(chuàng)新的射頻直采架構(gòu)，儀表體積縮小一半，射頻性能不妥協(xié)。

?雙通道、高帶寬

1臺(tái)儀器提供2個(gè)矢量信號(hào)源和2個(gè)矢量信號(hào)分析儀功能，支持50MHz–8.5GHz 超寬頻段 和1GHz瞬時(shí)帶寬 ，輕松覆蓋Wi-Fi 7、5G/6G 通信等需求。

?射頻直采架構(gòu)優(yōu)勢(shì)

創(chuàng)新射頻儀表設(shè)計(jì)，射頻直采架構(gòu)，大大簡(jiǎn)化射頻前端設(shè)計(jì)，無需本振，頻率調(diào)諧更快，且沒有本振泄漏和邊帶鏡像問題。

• 頻率設(shè)定時(shí)間: ≤150µs

• 幅度設(shè)定時(shí)間(<最終值0.1dB): 27µs

?信號(hào)質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)

?模塊化設(shè)計(jì)，靈活擴(kuò)展

僅需2個(gè)PXIe槽位 ，相同機(jī)箱大小可以提供更高測(cè)試密度，適配產(chǎn)線批量測(cè)試，MIMO測(cè)試、多DUT并行驗(yàn)證等場(chǎng)景 。

?開放軟件生態(tài)

原生支持 LabVIEW、Python、C#，集成 RFmx測(cè)量套件實(shí)現(xiàn)調(diào)制信號(hào)生成和分析，一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告；

?利用雙通道完成Cross Correlation提升EVM測(cè)試結(jié)果

通過控制PXIe-5860的2個(gè)獨(dú)立的射頻通道（相當(dāng)于2臺(tái)寬帶射頻信號(hào)分析儀），利用NI前端技術(shù)測(cè)量超寬帶信號(hào)的真實(shí)被測(cè)設(shè)備（DUT）的EVM，以消除所獲得的射頻信號(hào)中的不相關(guān)噪聲，同時(shí)可計(jì)算由待測(cè)設(shè)備產(chǎn)生的噪聲和損傷引起的真實(shí)EVM，可以實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的EVM測(cè)量，并具有比單一射頻接收機(jī)更高的性能，提升約2dB。該方法已在實(shí)際項(xiàng)目中成功應(yīng)用。

硬件配置：

軟件界面：

?Wi-Fi 7產(chǎn)線測(cè)試：320 MHz超寬帶信號(hào)并行測(cè)試，EVM指標(biāo) 低至-48 dB ；

美國NI PXIe-5860 雙通道RF PXI矢量信號(hào)收發(fā)儀(VST)集成了信號(hào)生成和分析功能。PXIe-5860具有兩個(gè)獨(dú)立的TX/RX通道，支持最高8.5GHz的測(cè)試頻率和1GHz的信號(hào)帶寬。憑借優(yōu)良的RF性能和解調(diào)能力，該設(shè)備是Wi-Fi設(shè)備生產(chǎn)測(cè)試的理想選擇。

我們可以演示一臺(tái)VST上完成兩個(gè)站點(diǎn)的并行大幅提升測(cè)試效率、提高單位小時(shí)產(chǎn)量（UPH）并節(jié)省測(cè)試成本。一臺(tái)VST 實(shí)現(xiàn)雙站點(diǎn)測(cè)試，在演示程序中，測(cè)試時(shí)間得到優(yōu)化，如CHP 總測(cè)試時(shí)間為3ms，IM3總測(cè)試時(shí)間為 3.76ms等，該方法已在部分量產(chǎn)項(xiàng)目中得到應(yīng)用。

硬件配置：

軟件界面：